硅红外滤光片旨在降低直拉硅单晶氧含量，提高硅红外滤光片透过率的硅片热处理工艺。其特征是将硅片在400-1000℃温度间的四段温区逐步升温并保温适当时间并在硅片冷却至850℃以下时取出，处理后的直拉硅单晶片在9um处的透过率接近或达到区熔硅单晶的水平，用热处理后的廉价直拉硅单晶片制造的红外滤光片，可满足红外仪器设备所需红外滤光片的要求，大大降低了滤光片的成本。

硅红外滤光片的热处理工艺，包括硅片的切、磨、抛光和腐蚀清洗及热处理用石英炉管的HCl处理，
它的特征在于：
1.在炉温低于400℃时，装入硅片，
2.将炉温升至400-550℃，保温10-30小时;然后升温至700-800℃，保温10-30小时，再升温至800-900℃，保温2-5小时，最后升温至900-1000℃，保温2-5小时，
3.在炉温降至850℃以下时，取出硅片。

硅单晶红外滤光片具有良好的红外光谱特性以及物理性能，目前已经广泛的在红外传感器滤光片主要采用单晶硅为基片，通过在基片上交替镀制不同折射率和厚度的材料薄膜，使基材具有长波通、短波通，带通，增透，反射等光学功能。

我司生产的单晶硅红外滤光片主要应用在激光、成像、探测、测温、传感、航空航天等领域的传感器上面，所以也叫红外传感器专用滤光片。
硅单晶红外滤光片主要应用：
1、红外报警器
2、高清晰夜视仪
3、体温测温仪
4、红外热成像仪
5、大气体分析仪